1998: Tecnología de silicio de grano continuo

Sharp desarrolló la tecnología de silicio de grano continuo junto con Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. En comparación con el silicio amorfo convencional utilizado en las pantallas LCD generales, el silicio de grano continuo permite una mayor movilidad de los electrones y también permite incorporar los circuitos de la unidad en el sustrato de vidrio. Esta tecnología se desarrolló para su uso en un panel LCD de proyección trasera que requería una mayor definición.